媒體日前從中科院光電技術研究所獲悉，該所微電子專用設備研發團隊已自主研制出一種新型紫外納米壓印光刻機，其成本僅為國外同類設備1/3，將有力推進我國芯片加工等微納級結構器件制造水平邁上新的臺階。

　　光刻機是微納圖形加工的專用高端設備。光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，這套設備采用新型納米對準技術，將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。

　　對準是光刻設備三大核心指標之一，是實現功能化器件加工的關鍵。胡松表示，在國家自然基金的連續資助下，光電所研究團隊完成了基于莫爾條紋的高精度對準技術自主研發，取得專利20余項。該技術在光刻機中的成功應用，突破了現有納米尺度結構加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術保障，未來可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵等微納結構器件的制備，目前該設備已完成初試和小批生產。